Mascarilla Autofiltrante de partículas. EN 149:2001+A1:2009 FFP1 NR D. Partículas sólidas y/o líquidas no volátiles y niveles molestos de fluoruro de hidrógeno. Máximo nivel de uso: 4 X VLA para partículas y por debajo de VLA para fluoruro de hidrógeno.

Mascarilla Autofiltrante de partículas. EN 149:2001+A1:2009 FFP1 NR D. Partículas sólidas y/o líquidas no volátiles y niveles molestos de vapores orgánicos. Máximo nivel de uso: 4 X VLA para partículas y por debajo de VLA para vapores orgánicos.

Mascarilla Autofiltrante de partículas. EN 149:2001+A1:2009 FFP1V NR D. Partículas sólidas y/o líquidas no volátiles y niveles molestos de fluoruro de hidrógeno. Máximo nivel de uso: 4 X VLA para partículas y por debajo de VLA para fluoruro de hidrógeno.

Mascarilla Autofiltrante de partículas. EN 149:2001+A1:2009 FFP1 NR D. Partículas sólidas y/o líquidas no volátiles y niveles molestos de gases ácidos. Máximo nivel de uso: 4 X VLA para partículas y por debajo de VLA para gases ácidos.

Mascarilla Autofiltrante de partículas. EN 149:2001+A1:2009 FFP2V NR D. Partículas sólidas y/o líquidas no volátiles y niveles molestos de vapores orgánicos. Máximo nivel de uso: 12 X VLA para partículas, 10 X VLA para ozono y por debajo de VLA para vapores orgánicos.